Aperçu des résines photosensibles
La photorésine, également appelée résine photosensible, désigne un matériau en couche mince dont la solubilité change lorsqu'il est exposé à la lumière UV, aux faisceaux d'électrons, aux faisceaux d'ions, aux rayons X ou à d'autres rayonnements.
Elle est composée d'une résine, d'un photo-initiateur, d'un solvant, d'un monomère et d'autres additifs (voir tableau 1). La résine photosensible et le photo-initiateur sont les composants les plus importants qui influencent ses performances. Elle est utilisée comme revêtement anticorrosion lors du procédé de photolithographie.
Lors du traitement des surfaces de semi-conducteurs, l'utilisation d'une résine photosensible sélective appropriée permet de créer l'image souhaitée sur la surface.
Tableau 1.
| Ingrédients de photorésine | Performance |
| Solvant | Il rend la photorésine fluide et volatile, et n'a pratiquement aucun effet sur ses propriétés chimiques. |
| Photoinitiateur | Également appelé photosensibilisateur ou agent de photopolymérisation, il s'agit du composant photosensible des résines photosensibles. C'est un composé capable de se décomposer en radicaux libres ou en cations et d'initier des réactions de réticulation chimique dans les monomères après absorption d'énergie lumineuse ultraviolette ou visible d'une longueur d'onde spécifique. |
| Résine | Il s'agit de polymères inertes qui servent de liants pour maintenir ensemble les différents matériaux d'une résine photosensible, conférant ainsi à cette dernière ses propriétés mécaniques et chimiques. |
| Monomère | Également connus sous le nom de diluants actifs, ce sont de petites molécules contenant des groupes fonctionnels polymérisables et des composés de faible poids moléculaire qui peuvent participer à des réactions de polymérisation pour former des résines de poids moléculaire élevé. |
| Additif | Il est utilisé pour contrôler les propriétés chimiques spécifiques des photorésines. |
Les résines photosensibles sont classées en deux grandes catégories selon l'image qu'elles forment : positives et négatives. Lors du processus de photolithographie, après exposition et développement, les parties exposées du revêtement se dissolvent, laissant apparaître les parties non exposées. Ce revêtement est alors considéré comme une résine photosensible positive. Si les parties exposées restent visibles tandis que les parties non exposées se dissolvent, le revêtement est considéré comme une résine photosensible négative. Selon la source de lumière et le type de rayonnement utilisés pour l'exposition, les résines photosensibles sont également classées en : résines UV (incluant les résines UV positives et négatives), résines UV profondes (UVP), résines à rayons X, résines à faisceau d'électrons et résines à faisceau d'ions.
La photorésine est principalement utilisée pour la fabrication de motifs à grains fins dans les écrans, les circuits intégrés et les composants semi-conducteurs discrets. Sa production est complexe et se décline en une grande variété de produits aux spécifications diverses. L'industrie électronique, notamment pour la fabrication de circuits intégrés, impose des exigences strictes à la photorésine utilisée.
Ever Ray, fabricant fort de 20 ans d'expérience et spécialisé dans la production et le développement de résines photopolymérisables, dispose d'une capacité de production annuelle de 20 000 tonnes, d'une gamme complète de produits et propose des solutions sur mesure. Sa résine photosensible 17501 est le composant principal de ses produits.
